工藝技術│詳解硫酸銅電鍍工藝

銅既要掩蓋鋼輥的缺陷，又要為下道工序——電陽極處理雕展示最好的工作面。鍍銅是一個極為復雜的過程，對其控制應極為嚴密，稍有馬虎，就需要耗費大量的時間、人力、物力來糾正所出現的問題。

（一）鍍銅工藝流程金工滾筒→檢驗→發配滾筒→滾筒前處理→預鍍鎳→打磨清洗→鍍銅→卸滾筒→交車磨（二）滾筒鍍銅原理鍍銅層呈粉紅色，質柔軟，具有良好的延展性。 鍍銅槽中電解溶液的主要成分是硫酸（H2SO4）和硫酸銅（CuSO4•5H2O）。銅在這種溶液中以銅離子（Cu2+）形式存在。電解銅作為陽極，按半圓弧分布於電解溶液中，並與電源陽極相接。滾筒橫放在電解槽中，其表面有的是全部浸入電解溶液中，有的是半浸或1/3浸入電解溶液中，它與陰極相接，並以一定轉速旋轉。通電後，陰陽兩極發生化學反應，銅離子帶有正電荷，被陰極吸引，在陰極獲得電子而形成銅原子，並附著在滾筒上，完成電鍍。但事實上，由於某些原因會干擾這種反應過程，正負離子始終不會平衡，所以在實際生產中不容易制得很滿意的電鍍滾筒。針對這種情況，只能盡力做到減少干擾因素，根據本的條件，進行各種器材、工藝的匹配，以制得滿意的電鍍滾筒。

（三）加強導電性管理提高銅層質量，重要的是控制好電流差，保證導電部位干淨和接觸良好，使電流值分布均勻，使滾筒兩端和中間的銅層硬度一致。（四）鍍銅液的主要成分 凹版電鍍采用硫酸鹽鍍銅，鍍液的基礎成分是硫酸銅和硫酸。硫酸銅用來供給鍍液中的銅離子，硫酸則能起到防止銅鹽水解、提高鍍液導電電鍍能力和陰極極化的作用。由於鍍液的電流效率高（近於100%），可鍍得較厚的鍍層。當然，要保證各種化學品的純度與穩定。鍍銅液的主要成分如下：1。硫酸銅(CuSO4•5H2O)，是藍色晶體，顆粒大小如玉米粒，應盡量無黃色，工業級可用。根據生產條件和不同要求，硫酸銅的含量有的規範為200～250g/L，有的為210～230g/L，有的為180～220g/L。硫酸銅含量低，允許的工作電流密度低，陰極電流效率低。硫酸銅含量的提高受到其溶解度的限制，並且電鍍中隨硫酸含量的增高，硫酸銅的溶解度相應降低。所以硫酸銅含量必須低於其溶解度，以防止其析出。

2。硫酸(H2SO4)，在鍍液中能顯著降低鍍液電阻，防止硫酸銅水解沉澱。其化學鋁表面處理反應式如下：CuSO4+2H2OCu(OH)2+H2SO4 若發出像氨水一樣的氣味，則有問題。若槽液濃度不合適，會產生Cu2+，使鍍銅面出現麻點和針眼。 硫酸含量低時，鍍層粗糙，陽極鈍化。增加硫酸含量，能提高均鍍能力，但有些光亮劑易於分解。其含硬陽處理量有的規範為40～60g/L，有的為55～65g/，有的為60～70g/L。有的把硫酸銅含量控制在180～270g/L，硫酸含量控制在55～65g/L，取得了很好的效果，使銅層達到最佳硬度，並延長了存放期。

3。氯離子(Cl-)，通過加入少許鹽酸獲得。氯離子是酸性光亮鍍銅中不可缺少的一種無極陰離子。沒有氯離子便不能獲得理想的光亮銅層，但氯離子含量過高會使發色處理鍍銅層產生麻點，並影響光亮度和平整性。應根據添加劑的要求使用，如：美吉諾添加劑為50～60ppm，Hard為50ppm左右，大和G為80～120ppm。


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